උත්ප්‍රේරක සහාය

උත්ප්‍රේරක වාහකය ඝන උත්ප්‍රේරකයක විශේෂ කොටසක්, විසරණය, බන්ධකය, උත්ප්‍රේරකයේ ක්‍රියාකාරී සංරචකයේ සෘණ වාහකය සහ සමහර විට සම-උත්ප්‍රේරකයක් හෝ සම-උත්ප්‍රේරකයක් ලෙස ACTS වේ. ආධාරකය ලෙසද හැඳින්වෙන උත්ප්‍රේරක වාහකය ආධාරක උත්ප්‍රේරකයේ සංරචක වලින් එකකි. සාමාන්‍යයෙන්, එය නිශ්චිත මතුපිට ප්‍රදේශයක් සහිත සිදුරු සහිත ද්‍රව්‍යයක් වන අතර, උත්ප්‍රේරකයේ ක්‍රියාකාරී සංරචකය බොහෝ විට එයට සම්බන්ධ වේ. වාහකය ප්‍රධාන වශයෙන් ක්‍රියාකාරී සංරචකයට සහාය වීම සඳහා භාවිතා කරයි, එවිට උත්ප්‍රේරකයට නිශ්චිත භෞතික ලක්ෂණ ඇති අතර, වාහකයටම සාමාන්‍යයෙන් උත්ප්‍රේරක ක්‍රියාකාරකම් නොමැත.

උත්ප්‍රේරක ආධාරක අවශ්‍යතා

1, ක්‍රියාකාරී සංරචකවල, විශේෂයෙන් වටිනා ලෝහවල ඝනත්වය තනුක කළ හැක.

2, නිශ්චිත හැඩයකට සකස් කළ හැකිය

3. ක්‍රියාකාරී සංරචක අතර සින්ටර් වීම යම් ප්‍රමාණයකට වළක්වා ගත හැකිය.

4, විෂ වලට ඔරොත්තු දිය හැකිය

5. එය ක්‍රියාකාරී සංරචකය සහ ප්‍රධාන උත්ප්‍රේරකය සමඟ අන්‍යෝන්‍ය බලපෑමක් ඇති කළ හැකිය.

උත්ප්‍රේරක වාහකයේ බලපෑම

1, උත්ප්‍රේරක පිරිවැය අඩු කරන්න

2, උත්ප්‍රේරකයේ යාන්ත්‍රික ශක්තිය වැඩි දියුණු කරන්න

3. උත්ප්‍රේරක තාප ස්ථායිතාව වැඩි දියුණු කිරීම

4, උත්ප්‍රේරක ක්‍රියාකාරිත්වය සහ තේරීම් හැකියාව එක් කරන්න

5. උත්ප්‍රේරක ආයු කාලය දීර්ඝ කරන්න

ප්‍රාථමික වාහක කිහිපයක් හඳුන්වා දෙනු ලැබේ.

1. සක්‍රිය ඇලුමිනා: කාර්මික උත්ප්‍රේරක සඳහා බහුලව භාවිතා වන වාහකය. අඩු මිල, ඉහළ තාප ප්‍රතිරෝධය, ක්‍රියාකාරී සංරචකවල හොඳ අනුකූලතාව.

2. සිලිකා ජෙල්: රසායනික සංයුතිය SiO2 වේ. සාමාන්‍යයෙන් සෝඩියම් සිලිකේට් (na 2 si 3) අම්ලයෙන් සාදා ඇත. සෝඩියම් සිලිකේට් සහ අම්ලයේ බලපෑමෙන් පසුව සිලිකේට් අම්ලය සෑදී ඇත. සිලිසික් අම්ලය බහුඅවයවීකරණය, ඝනීභවනය, පොලිමර් ව්‍යුහය අවිනිශ්චිතය.

SiO2 බහුලව භාවිතා වන වාහකයක් වන නමුත් එහි කාර්මික යෙදුම Al2O3 ට වඩා අඩුය, එය සකස් කිරීමේ දුෂ්කරතා, ක්‍රියාකාරී සංරචක සමඟ දුර්වල සම්බන්ධතාවය, ජල වාෂ්ප සමඟ පහසුවෙන් සින්ටර් කිරීම සහ අනෙකුත් දෝෂ නිසාය.

3. ඩයටොමයිට්: ස්වාභාවික SiO2. එහි ලෝහ ඔක්සයිඩ සහ කාබනික ද්‍රව්‍ය කිහිපයක් අඩංගු වන අතර, එහි සිදුරු ව්‍යුහය සහ නිශ්චිත මතුපිට සම්භවය සමඟ වෙනස් වේ. භාවිතයට පෙර අම්ල ප්‍රතිකාරය භාවිතා කළ යුතුය. එකක් නම් SiO2 හි අන්තර්ගතය වැඩි දියුණු කිරීම සහ නිශ්චිත මතුපිට, නිශ්චිත සිදුරු පරිමාව සහ ප්‍රාථමික සිදුරු අරය වැඩි කිරීමයි. දෙවැන්න නම් තාප ස්ථායිතාව වැඩි දියුණු කිරීමයි, අම්ල ප්‍රතිකාරයෙන් පසු නිශ්චිත මතුපිට තවදුරටත් වැඩි කළ හැකිය. ඩයටොමයිට් ප්‍රධාන වශයෙන් ස්ථාවර ඇඳ උත්ප්‍රේරක සකස් කිරීමට භාවිතා කරයි.

4, සක්‍රිය කාබන්: ප්‍රාථමික අමුද්‍රව්‍යය C වන අතර එහි H, O, N, S සහ අළු කිහිපයක් අඩංගු වේ. සක්‍රිය කාබන් අක්‍රමවත් ගල් මෝල් ව්‍යුහයක් ඇත, මතුපිට කාබොනයිල් කාණ්ඩය, ක්විනෝන් කාණ්ඩය, හයිඩ්‍රොක්සයිල් කාණ්ඩය සහ කාබොක්සයිල් කාණ්ඩය ඇත. සක්‍රිය කාබන් සංවර්ධිත සිදුරු සහ විශාල මතුපිට ප්‍රදේශය, තාප ස්ථායිතාව සහ ඉහළ අගයන් මගින් සංලක්ෂිත වේ.

5. TiO2: එයට ස්ඵටික හැඩතල තුනක් ඇත: ඇනටේස්, තහඩු ටයිටේනියම් සහ රූටයිල්. ටයිටේනියම් ලෝපස් තහඩුව අස්ථාවරත්වය නිසා සංස්ලේෂණය කිරීමට අපහසුය; ඇනටේස් සෑදී ඇත්තේ 3.84 ක සාපේක්ෂ ඝනත්වයක් සහ විශාල නිශ්චිත මතුපිට ප්‍රදේශයක් සහිත අඩු උෂ්ණත්වයකදීය. 600~1000°C දී රත් කළ ඇනටේස් රූටයිල් බවට පත් වන අතර එය 4.22 ක සාපේක්ෂ ඝනත්වයක් සහ කුඩා නිශ්චිත මතුපිට ප්‍රදේශයක් ඇත.

6. සිලිකන් කාබයිඩ්: කාබයිඩ් සෙරමික් වල ද්‍රවාංකය 2000°C ට වඩා වැඩි වන අතර, ඉහළ තාප සන්නායකතාවය, ඉහළ දෘඪතාව, ශක්තිමත් තාප ප්‍රතිරෝධය සහ බලපෑම් ප්‍රතිරෝධය ඇත, නමුත් එය ඔක්සිජන් වායුගෝලයකදී සරලව ඔක්සිකරණය වේ. එබැවින් SiC බොහෝ විට ඉහළ උෂ්ණත්ව පරිසරයක උත්ප්‍රේරක වාහකය ලෙස භාවිතා කරයි.

7. අණුක පෙරනයක්: එය ස්ඵටිකරූපී සිලිකේට් හෝ සිලිකොඇලුමිනේට්, ඔක්සිජන් පාලම් බන්ධන මගින් සම්බන්ධ කර ඇති සිලිකො-ඔක්සිජන් ටෙට්‍රාහෙඩ්‍රෝනයකින් හෝ ඇලුමිනො-ඇලුමිනියම් ටෙට්‍රාහෙඩ්‍රෝනයකින් සමන්විත සිදුරු සහ කුහර පද්ධතියකි. එයට ඉහළ තාප ස්ථායිතාව, ජල තාප ස්ථායිතාව සහ අම්ල සහ ක්ෂාර ප්‍රතිරෝධය ඇත.