د فوتوولټیک شیشې اصلي خام مواد عبارت دي له: سیلیکا شګه، سوډا ایش، ډولومایټ، د چونې ډبره، المونیم هایدروکسایډ، میرابیلایټ، سوډیم نایټریټ، سوډیم پیروانټیمونیټ، او ځینې بیا کارول شوي مات شوي شیشې. د فوتوولټیک شیشې د رڼا لیږد لپاره د ځانګړو اړتیاو له امله، دا عموما اړینه ده چې د هر خام موادو د اوسپنې مینځپانګه ټیټه وي، او خام مواد ټیټ اوسپنه وي، ترڅو د لوړ رڼا لیږد ترلاسه کړي.
۱. سیلیکا شګه، د سیلیکا اصلي برخه، د فابریکې د انتخاب عمومي اصل
۱۱ د SiO2 لوړ محتوا او ثبات.
۱.۲ د Fe2O3 او Al2O3 ټیټ محتوا او باثباته.
۱.۳ هیڅ انعطاف منونکي ذرات نشته، لکه کرومایټ او نور ککړونکي.
۱.۴ د ذراتو مناسب اندازه، لوی ذرات نشته او ډیر ښه پوډر.
۱.۵ د رطوبت مستحکم مقدار.
د شاخص ځانګړي اړتیاوې
الف: کیمیاوي جوړښت:
| منځپانګې | سی او ۲ | ال۲او۳ | Fe2O3 د اوبو سره | د LOI | لندبل |
| % | ≥۹۹.۳±(۰.۴) | ≤0.3±(0.1) | ≤0.008 | ≤0.15 | ≤۵.۰ |
که چیرې د همجنسبازۍ ذخیره کولو اسانتیا شتون ولري، نو د اوبو کنټرول او کنټرول په مناسب ډول آرام کیدی شي ترڅو د همجنسبازۍ ذخیره کولو ته د تغذیې اړتیاوې پوره کړي.
ب. د ذراتو ویش
| mm | ۱.۰ | ۰.۷۱ | ۰.۵۰ | ۰.۱۲۵ | -۰.۱۲۵ |
| % | نه | ≤نه | ≤۵.۰ | ≥۹۰.۰ | ≤۱۰.۰ |
د ذراتو د اندازې د ویش له مخې، ځینې ادبیات ښیي چې د ښه پوډر معیار په مناسب ډول تر 15٪ پورې آرام کیدی شي، مګر د بټۍ ډول باید په پام کې ونیول شي. که چیرې دا د ټول اکسیجن بټۍ وي، نو دا په مناسب ډول آرام کیدی شي، پداسې حال کې چې که دا د هوا بټۍ وي، نو دا باید آرام نه شي، ترڅو د ښه پوډر نیمګړتیاو څخه مخنیوی وشي چې جالی بندوي او د سپینو نیمګړتیاو لامل کیږي. د سیلیکا شګو د ویلې کیدو نقطه د 1800 ℃ څخه ډیر دی. که چیرې لوی ذرات شتون ولري، نو د ویلې کیدو حالت ممکن رامینځته نشي (د کشش مقدار او د بټۍ د ویلې کیدو کچې پورې اړه لري).
په اوس وخت کې، د سیلیکا شګو اصلي سرچینې دا دي: د فینګ یانګ سیمه، ان هوی ولایت، وینچانګ، هینان ولایت، هیپو، بیهای، ژان جیانګ، او هیوان سیمه. په بهر کې، اوس مهال اندونیزیا، مالیزیایي، ویتنامي او آسټرالیایي شګه شتون لري. په فینګ یانګ او هیوان رګونو کې د کوارټز ایسک کیفیت د کاولین ایلوټریشن لپاره د وروستي وخت په توګه د شګو ډبرو بیا کرش کولو لپاره جوړ شوی (د مثال په توګه، هیپو، ژان جیانګ شګه)، بیا د سمندر شګه ده (په عمده توګه ټایټانیوم ډای اکسایډ لري چې نه لرې کیږي او نه کمیږي، بټۍ یو څه تخریب لري، او په شیشې کې د ټایټانیوم ډای اکسایډ پاتې شوني کولی شي د UV رڼا لیږد لامل شي. شیشه ښکته).
2. د سوډا سوډا، د شیشې فابریکې عموما درانه سوډا سوډا غوره کوي، د سوډیم کاربونیټ اصلي برخه، د یوځای کولو کې رول لوبوي، د هغې دانه او سیلیکا شګه په اړیکه کې، د سوډا سوډا کیفیت معیارونو او د انتخاب اصولو عمومي فابریکې اړتیاوې په لاندې ډول دي:
۲.۱ د Na2CO3 لوړه کچه
۲.۲ د NaCl او Fe2O3 ټیټه اندازه
۲.۳ د ذراتو مناسب اندازه او د ککړتیاو او کیک کولو څخه پاک.
د شاخص ځانګړي اړتیاوې
الف. د اجزاو اړتیاوې:
| منځپانګې | Na2CO3 د نا2CO3 سره | NaCl - کلسیم کلورایډ | زیان | Fe2O3 د اوبو سره |
| % | ≥۹۹.۰ | ≤0.50 | ≤0.50 | ۰.۰۰۳۰ |
۵. د المونیم هایدروکسایډ، په عمده توګه د الومینا اجزا چمتو کوي، د شیشې ځواک د رول لوړولو لپاره، مګر د الومینا لوړ مینځپانګه ممکن د خراب وضعیت د ویلې کیدو وضاحت لامل شي، محتاط زیاتوالی ته اړتیا ده، د فوتوولټیک شیشې الومینا مینځپانګې عمومي صنعت اړتیاوې په 0.95-1.05٪ یا ورته کې، کولی شي د ښه پرې کولو فعالیت او ځواک اړتیاوې ترلاسه کړي. ځکه چې د المونیم هایدروکسایډ د الومینا په پرتله ویلې کول اسانه دي، او کولی شي د اوبو مالیکولونه تولید کړي ترڅو خارج شي، وضاحت لوړ کړي، نو ډیری فابریکې د المونیم هایدروکسایډ انتخاب د خامو موادو په توګه د الومینا جوړښت معرفي کولو لپاره دی. په هرصورت، وروستیو مطالعاتو ښودلې چې الټرافین الومینا پوډر لاهم د ګیلاس کیفیت اغیزه کولو پرته په فوتوولټیک شیشې کې کارول کیدی شي. خام مواد د کوچنیو ذرو اندازې او د سطحې انرژۍ څخه لوی ځانګړتیاو څخه کار اخیستل کیږي. د المونیم هایدروکسایډ نبات د انتخاب اصل:
۵.۱ د المونیم اکسایډ اندازه باید لوړه وي، د المونیم هایدروکسایډ اندازه باید لوړه وي
۵.۲ د Fe2O3 د محتوا ټیټه اړتیا
۵.۳ نه ککړتیا او نه کیک کول.
د پوسټ وخت: اپریل-۲۶-۲۰۲۱