شیشه فتوولتائیک چیست؟
سلول‌های خورشیدی سیلیکون کریستالی از استحکام مکانیکی ضعیفی برخوردارند و مستعد پارگی هستند. رطوبت و گازهای خورنده موجود در هوا به تدریج الکترودها را اکسید و خورده می‌کنند و باعث می‌شوند که آنها نتوانند در شرایط سخت کار در فضای باز مقاومت کنند. بنابراین، سلول‌های خورشیدی معمولاً توسط شیشه فتوولتائیک از طریق EVA و پنل پشتی محصور می‌شوند. شیشه فتوولتائیک در ماژول فتوولتائیک برای محافظت از باتری در برابر فرسایش گاز آب، مسدود کردن اکسیژن برای جلوگیری از اکسیداسیون، مقاومت در برابر دمای بالا و پایین، عایق خوب و مقاومت در برابر پیری استفاده می‌شود. شیشه فتوولتائیک نوعی شیشه سیلیکات با محتوای آهن کم است که به عنوان شیشه برجسته فوق سفید نیز شناخته می‌شود.
شیشه فتوولتائیک مورد استفاده در سلول‌های سیلیکونی کریستالی با شیشه فلوت متفاوت است. سطح بالایی شیشه فتوولتائیک از جنس جیر است، به طوری که نور مستقیماً به سطح ماژول تابیده می‌شود و انعکاس آینه‌ای ایجاد نمی‌کند. سطح زیرین دارای سطح برجسته است که می‌تواند نیروی چسبندگی را با فیلم EVA افزایش دهد.
مواد اولیه اصلی شیشه فتوولتائیک شامل ماسه کوارتز، خاکستر سودا، سنگ آهک، دولومیت، نیترات سدیم، میرابیلیت، پیروآنتیمونات سدیم، هیدروکسید آلومینیوم و غیره است. ماسه کوارتز عمدتاً نقش تشکیل دهنده شبکه را ایفا می‌کند، دوز مصرفی معمولاً اکثر اجزای شیشه را اشغال می‌کند، خاکستر سودا عمدتاً برای تهیه اکسید سدیم، عمدتاً برای کاهش دمای ذوب شیشه استفاده می‌شود. عملکرد اصلی سنگ آهک تنظیم ویسکوزیته شیشه به مقدار مناسب است، به طوری که زمان قالب گیری شیشه برای برآورده کردن الزامات قالب گیری، نقش میرابیلیت عمدتاً به عنوان یک عامل شفاف کننده است که برای از بین بردن حباب‌های موجود در شیشه و برای تأمین عبور نور از شیشه استفاده می‌شود.
نسبت مصرف مواد اولیه شیشه فتوولتائیک
فرآیند آماده‌سازی شیشه فتوولتائیک 01 شیشه فتوولتائیک معمولاً با روش کلندرینگ تهیه می‌شود که در آن فرآیند تولید را می‌توان به دو مرحله تقسیم کرد: تولید ورق خام و پردازش عمیق؛ تولید مواد اولیه عمدتاً شامل بسته‌بندی، ذوب، نورد، آنیل و برش است. در فرآیند نورد حدود 1100 درجه سانتیگراد، شیشه مذاب، غلتک‌های کلندر می‌غلتند و خنک می‌شوند تا با سرعت مشخصی به ضخامت، عرض و الگوی مشخصی برسند و از شیشه با نرخ 91.5٪ عبور کنند و سپس پس از آنیل کردن، منحنی تنش شیشه نسبتاً پایدار می‌شود تا استحکام خاصی داشته باشد، به راحتی شکسته نشود و برای برش و پردازش شیشه مناسب باشد. باید اشاره کرد که خطوط تولید شیشه برجسته فتوولتائیک و شیشه شناور متفاوت هستند، اگر تقاضا برای شیشه فتوولتائیک به اندازه‌ای نباشد که مستقیماً از خط تولید شیشه شناور تغییر کند.
فرآیند پردازش عمیق معمولاً پوشش و سخت شدن شیشه اصلی است، پوشش برای بهبود عبور نور از شیشه فتوولتائیک است، سخت شدن برای افزایش خواص مکانیکی شیشه است، پس از سخت شدن، مقاومت خمشی شیشه 3 تا 5 برابر شیشه معمولی و مقاومت ضربه 5 تا 10 برابر شیشه معمولی می‌شود که باعث بهبود استحکام و همچنین بهبود امنیت می‌شود.
جریان فرآیند شیشه فتوولتائیک
عملکرد شیشه فتوولتائیک مستلزم آن است که شیشه فتوولتائیک باید از قابلیت عبور نور خوبی برخوردار باشد. به طور کلی، قابلیت عبور نور فولاد بدون پوشش (محدوده طول موج از ۳۸۰ نانومتر تا ۱۱۰۰ نانومتر) معمولاً بالای ۹۱٪ است، در حالی که این میزان برای شیشه پوشش داده شده پس از پردازش عمیق می‌تواند به ۹۳.۵٪ برسد. علاوه بر این، شیشه فتوولتائیک باید مقاومت در برابر آب و هوا و خواص مکانیکی خاصی را برآورده کند. طبق GB T 30984.1-2015 شیشه خورشیدی - بخش ۱ شیشه برجسته فوق سفید، حداقل عملکرد شیشه فتوولتائیک برای ماژول‌های فتوولتائیک باید الزامات زیر را برآورده کند.
صنعت شیشه فتوولتائیک چین
موانع صنعت شیشه فتوولتائیک بیشتر است، تمرکز بیشتر است، تولید نیاز به انباشت طولانی مدت تجربه و فرآیند تولید یک مرحله‌ای دارد و به سرمایه‌گذاری اولیه بیشتری نیاز دارد، ظرفیت کوره شیشه فتوولتائیک ۹۰۰ تن در روز به سرمایه‌گذاری اولیه ۹ یوان نیاز دارد، سرمایه‌گذاری برای کوره ۵۵۰ تنی حدود ۳ تا ۴۰۰ میلیون یوان طول می‌کشد و کوره‌های بزرگ در مقایسه با کوره‌های معمولی هزینه تولید کمتری دارند (مصرف انرژی کم تا ۲۰٪). در نتیجه، صنعت شیشه فتوولتائیک اثر مقیاس آشکاری دارد و با توجه به حجم زیاد فناوری هسته مذاب که عمدتاً در دست شرکت‌های پیشرو است، شرکت‌های کوچک و متوسط نسبتاً فاقد قدرت فنی و اقتصادی برای ساخت کوره‌هایی با ظرفیت ذوب روزانه ۱۰۰۰ تن هستند.
زمان ارسال: ۱۳ دسامبر ۲۰۱۹